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NH3激光气体分析系统

发布时间:  2021-01-18

产品型号:  TK-1100

产品报价:  1250

所  在  地:  山东省济南市天桥区蓝翔中路时代总部基地四期G3102

产品特点:  NH3激光气体分析系统

一、产品介绍
NH3激光气体分析系统(包括测量池)采用全程加热,保证样品气体温度,防止有水析出而对NH3的大量溶解影响分析结果。

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产品概述

NH3激光气体分析系统

一、产品介绍
NH3激光气体分析系统(包括测量池)采用全程加热,保证样品气体温度,防止有水析出而对NH3的大量溶解影响分析结果。探头采用电加热过滤探头,在取样出就完成样品的净化,减小了后级预处理的负荷,大大降低了器件的故障率。系统设计有探头自动反吹程序及仪表自动标零程序,正常运行后仅需要正常的巡检即可。传输管线采用复合电伴热管缆,并控制在2m以内,整个预处理全部集成在高温加热盒内,系统紧凑以避免长距离传输管路对NH3的吸附。

氨逃逸检测系统具有多年在国内外从事可调谐半导体激光光谱分析技术研发、掌握TDLAS核心技术并积累丰富经验的技术专家、研发团队精心打造而成的气体监测设备。测量快速、准确、稳定、不受背景气体干扰。


二、系统优势

NH3分析仪是采用可调谐半导体激光光谱技术研制而成。以高稳定性、低噪声的可调谐激光器为光源,可有效克服背景气体、粉尘等因素干扰,实现准确、快速测量。

• 适应高温、强腐蚀性气体的在线检测,采用非接触光学检测技术,对各类高温气体进行直接分析,针对各类腐蚀性气体的检测应用,选用特制的测量气体室以及高温伴热等方式,有效防止气体对仪器的腐蚀,满足各类应用要求。

•系统无漂移,避免了定期校正需要,NH3分析仪采用波长调制光谱技术,并且进行动态的补偿,实时锁住气体吸收谱线,不受温度、压力以及环境变化的影响,不存在漂移现象。

    NH3气体分析系统现场安装灵活,光学非接触测量不易被腐蚀,光强不受烟气粉尘影响,抗机械振动能力强,测量不受温度和压力等过程参数影响。具有测量精度高(达0.1ppm),抗干扰能力强、维护简单,运行成本低等诸多优势,可满足脱硝工艺中氨逃逸检测需求。


三、技术参数

 指标测量范围0-10.0ppm,0-50.0ppm 可根据用户需求设定
响应时间<20s
线性误差<1%F.S
零点漂移可忽略
重复性1%F.S
标定出厂时已标定,无需定期标定
输入和输出信号模拟量输出4-20mA电流环,750ΩMax,隔离
报警输出浓度超限、温度异常、系统故障均报警
继电器输出2路(可扩展),触点负载24V,2A
通讯接口RS485,双端隔离
工作条件环境温度(-20)~50
保护等级IP54
工作电压200V-240VAC,50Hz
电源功耗≤3000W
预热时间1小时
伴热温度180℃~240
 采样流量2~20L/min(可根据用户需求定制)
尺寸机柜1000×1200×600mm(默认尺寸)

四、产品特点

1、该装置与样品接触的部分全部采用316L不锈钢材料加工制成,高温条件下抗腐能力很强。配制防雨罩完全可以胜任室外工作环境。
2、在设计上采用等温加热体,结构紧凑,加热温度稳定。
3、过滤器滤芯采用SiC陶瓷过滤器,具有过滤面积大,过滤精度高等特点,更换时可将其从装置中整体拉出,操作简单,无需工具,大大地缩短维护更换的时间,并降低了劳动强度。
4、该装置除设有一样气输出口外,还设置有一个可复用的反吹/校准口,在配置时可灵活安排气路。
5、操作简单,带有低温报警.
6、滤芯更换无需工具 。
7、开关方便,带扣锁保护罩
8、高效过滤清洁系统

五、系统主要技术指标
●检测工艺点:脱销氨逃逸检测     ●分析组分:NH3

●系统响应时间:1秒        ●测量范围:0-50ppm(可定制)
●测量精度:±1%F.S         ●稳定性:无漂移
●气体压力:25—2000mbar    ●校正:出厂设定
●系统维护周期:1年        ●系统可靠性: MTBF≥1年●信号输出:RS-232或RS-482/4~20mA隔离电流信号。

●输出信号:4~20mA,控制报警信号NO/NC
●工作电源:220VAC50HZ    ●工作气源:仪表级压缩空气

●环境温度:-10℃—50℃    ●伴热温度:190℃           

●安装方式:在位式

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NH3激光气体分析系统


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